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全球及中国化学机械抛光设备行业现状分析，国内市场规模稳中有进.化学机械抛光（CMP）设备主要用于单晶硅片制造和芯片制造前道工艺，依托CMP技术的化学机械动态耦合作用原理，通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用，实现晶圆表面多余材料的高新会区华铭机械设备厂阿里巴巴旺铺,新会区华铭机械设备厂，双水镇小冈，主要经营破碎机;粉碎机;筛粉机等;研磨机;电机，8607506401806，如需购买破碎机;粉碎机;筛粉机等;研磨机;电机，请联系我们新会区华铭机械设备厂,