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二、研磨原理研磨是以物理和化学综合作用去除零件表层金属的一种加工方法。研磨是以物理和化学综合作用去除零件表层金属的一种加工方法。1.物理作用物理作用研磨时要求研具材料比被研磨工件的材料稍软。研磨时要求研具材料比被研磨工件的材料稍化学机械抛光工艺（CMP）全解豆丁网,但它们都属于局部平面化工艺，不能做到全局平面化。.90年代兴起的化学机械抛光技术（CMP）则从加工性能和速度上同时满足硅片图形加工的要求，其也是目前唯一可以实现全局平坦化的技术2.基本原理2.1CMP定义CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆工艺品去毛刺滚筒抛光机螺丝去油抛光机铸铁件去氧化层研磨机,阿里巴巴工艺品去毛刺滚筒抛光机螺丝去油抛光机铸铁件去氧化层研磨机，电动抛光机，这里云集了众多的供应商，采购商，制造商。这是工艺品去毛刺滚筒抛光机螺丝去油抛光机铸铁件去氧化层研磨机的详细页面。品牌:弘浩，型号:HHPGJ200，类型:滚筒式抛光机，工作原理:卧式抛光机，电源类型
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